Serwis internetowy CNet donosi, że w laboratoriach firmy Intel powstał najszybszy na świecie tranzystor, ponad 1000-krotnie sprawniejszy od tranzystorów wykorzystywanych w dzisiejszych procesorach. Technologia wykorzystana przy budowie najszybszego tranzystora umożliwiła również jego znaczną miniaturyzację - szerokość układu wyniosła zaledwie 80 atomów.
Gerald Marcyk - dyrektor działu badawczego firmy Intel - przyznał, że przy wykorzystaniu nowatorskiej technologii na tej samej powierzchni jaką obecnie dysponuje struktura krzemowa procesora Pentium 4 możliwe będzie pomieszczenie 25-krotnie większej liczby tranzystorów. Marcyk przypuszcza, iż nowa technologia będzie gotowa do wykorzystania przemysłowego w okolicach roku 2007.
Procesory budowane w nowym procesie technologicznym umożliwią m.in. tworzenie inteligentnych superkomputerów oraz urządzeń rozpoznających ludzką mowę w trybie rzeczywistym.
Superszybkie tranzystory zaprezentowane 9 czerwca na Silicon Nanotechnology Workshop w Kyoto (Japonia) mają szerokość zaledwie 20 nanometrów (ludzki włos ma grubość ok. 10 tysięcy nanometrów). Pojedynczy element modelowego tranzystora miał zaś szerokość trzech atomów. Procesory wykorzystujące nową technologię charakteryzowały się będą znacznie niższą konsumpcją energii elektrycznej (zasilanie obniżone zostanie do poziomu poniżej 1 V - dla porównania jądro procesora Pentium 4 zasilane jest napięciem 1,7 V).
